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X射線熒光光譜儀原理

 
    主要用途:  
    X射線熒光光譜儀是較新型X射線熒光光譜儀,具有重現性好,測量速度快,靈敏度高的特點。能分析F(9)~U(92)之間所有元素。樣品可以是固體、粉末、熔融片,液體等,分析對象適用于煉鋼、有色金屬、水泥、陶瓷、石油、玻璃等行業樣品。無標半定量方法可以對各種形狀樣品定性分析,并能給出半定量結果,結果準確度對某些樣品可以接近定量水平,分析時間短。薄膜分析軟件FP-MULT1能作鍍層分析,薄膜分析。 測量樣品的*大尺寸要求為直徑51mm,高40mm.
    X射線熒光光譜一般采用X射線管作激發源,可分為順序式(或稱單道式或掃描式)、同時式(或稱多道式)譜儀、和順序式與同時式相結合的譜儀三種類型。順序式通過掃描方法逐個測量元素,因此測量速度通常比同時式慢,適用于科研及多用途的工作。同時式則適用于相對固定組成,對測量速度要求高和批量試樣分析, 順序式與同時式相結合的譜儀結合了兩者的優點。
    X射線熒光光譜儀可分為具有高分辨率的光譜儀,分辨率較低的便攜式光譜儀,和介于兩者之間的臺式光譜儀。高分辨率光譜儀通常采用液氮冷卻的半導體探測器,如Si(Li)和高純鍺探測器等。低分辨便攜式光譜儀常常采用正比計數器或閃爍計數器為探測器,它們不需要液氮冷卻。近年來,采用電致冷的半導體探測器,高分辨率譜儀已不用液氮冷卻。同步幅射光激發X射線熒光光譜、質子激發X射線熒光光譜、放射性同位素激發X射線熒光光譜、全反射X射線熒光光譜、微區X射線熒光光譜等較多采用的是能量色散方式。

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